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立即注册参与阴极发光原理及应用实例(中文)系列研讨会第二期:更多材料细节,加速获取半导体研究的优质新成果

阴极发光(CL)是一种用于研究具有深亚波长分辨率的光学特性的通用技术。 不同的CL成像模式可以帮助我们更加全面地了解有关块状和微/纳米结构半导体材料的特性。欢迎参与阴极发光系列研讨会第二期,了解如何将阴极发光有效应用于半导体材料的研究中!

近年来,阴极发光在半导体研究领域的应用越来越广泛,其对于半导体材料特征细节的强大洞悉力也已在各种实验中得到了证实。因此,我们十分激动在下一期的中文系列研讨会—— 2021阴极发光原理及应用实例——中与大家一同探讨阴极发光在半导体研究中的应用!

我们的演讲嘉宾窦媛瑞(Delmic亚洲区销售经理)将简单介绍阴极发光,阴极发光探测器,并举例介绍阴极发光成像在半导体材料研究中的应用,带您进一步了解如何使用阴极发光不同的成像模式快速获取更多材料细节信息,从而实现新的研究突破。凭借其丰富的与中国顾客沟通交流的经验,她也将解答大家有关实际应用的各种疑问,欢迎大家届时线上参与提问!

第二期:更多材料细节,加速获取半导体研究的优质新成果

时间:5月12日,下午3:00 - 3:30

通过填写以下表格,可即刻注册第一期! ( 注意:QQ邮箱无法完成平台注册)

 

如果您有意参加我们接下来的中文阴极发光研讨会,欢迎注册此系列研讨会,这样您将会自动注册后面的几期研讨会,同时第一时间收到活动具体信息。我们期待与您线上一同探讨阴极发光在各个领域的应用!

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阴极发光探测器SPARC Spectral规格说明

了解Delmic的阴极发光成像技术及SPARC Spectral产品特性

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Jingyue Liu