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网络电镜会 | 注册iCEM2021，参与Delmic应用专家带来的精彩报告

注册全国网络电镜会iCEM2021，参与Delmic应用专家带来的有关各方面电镜发展的精彩报告！

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立即注册参与阴极发光原理及应用实例（中文）系列研讨会第二期：更多材料细节，加速获取半导体研究的优质新成果

阴极发光（CL）是一种用于研究具有深亚波长分辨率的光学特性的通用技术。 不同的CL成像模式可以帮助我们更加全面地了解有关块状和微/纳米结构半导体材料的特性。欢迎参与阴极发光系列研讨会第二期，了解如何将阴极发光有效应用于半导体材料的研究中！

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Delmic首次举办中文网络研讨会：2021阴极发光原理及应用实例

步入2021，为了进一步帮助我们的全球华人顾客了解最先进强大的阴极发光成像技术，以及如何将其真切地应用于您自身的研究中，我们即将在三月开始首次举办Delmic的中文系列研讨会： 2021阴极发光原理及应用实例！

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Delmic受邀参与在北京大学举办的2020年蛋白质冷冻电子断层扫描三维重构技术应用研讨会

12月16日，Delmic参与了由国家蛋白质科学研究（北京）北大分中心、北京大学生命科学学院和赛默飞世尔公司共同主办，中国生物物理学会冷冻电子显微学分会承办的2020年蛋白质冷冻电子断层扫描三维重构技术应用研讨会。

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介绍Delmic Asia，我们的重要亚洲支持中心

Delmic很高兴地宣布我们在亚洲时区的重要支持中心Delmic Asia正式成立！

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欢迎参与第二场高通量成像网络研讨会

第二场超快体电镜网络研讨会即将到来：欢迎加入我们并了解有关即将推出的高通量电镜系统的更多信息

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Delmic全新网站，邀你来看

Delmic全新网站上线，尽情探索新功能与新内容吧！